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拓荆科技(688072)公司档案
股票代码688072
公司中文名称拓荆科技股份有限公司
公司英文名称Piotech Inc.
成立日期2010-04-28
工商登记号912101005507946696
注册资本/万元27972.91
法人代表刘静
组织形式民营企业
公司简介公司成立于2010年4月,2022年4月20日在上海证券交易所科创板成功挂牌上市。自成立以来,公司始终坚持自主研发,目前已形成PECVD(等离子体增强化学气相沉积)、ALD(原子层沉积)、SACVD(次常压化学气相沉积)、HDPCVD(高密度等离子体化学气相沉积)及流动性化学气相沉积(Flowable CVD)等薄膜设备产品系列,以及应用于三维集成领域的先进键合设备和配套的量检测设备产品系列,已广泛应用于国内集成电路逻辑芯片、存储芯片等制造领域。经过十余年的创新发展,公司已建成一支国际化、专业化的半导体设备研发技术团队,并坚持自主创新,构建了完善的知识产权体系,拥有多项国际先进的核心技术,设备性能及关键指标均达到国际同类设备水平,是国内专用量产型PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD及三维集成领域设备产品的领军企业。公司以“建立世界领先的半导体设备公司”为愿景,坚持以技术和产品创新驱动业务发展,通过持续加大研发投入,保持产品核心竞争力,凭借已有的技术、人才、经验及售后服务等优势,不断扩大公司业务规模。同时,面向市场技术的迭代需求,公司将持续提升设备性能,丰富设备种类,拓展技术应用领域,提高公司综合实力,实现高质量、稳健发展,为半导体产业发展做出更大的贡献,为股东创造长期可持续的价值。
经营范围一般项目:企业总部管理;企业管理;企业管理咨询;自有资金投资的资产管理服务;以自有资金从事投资活动;财务咨询;社会经济咨询服务;租赁服务(不含许可类租赁服务);国内贸易代理;销售代理.(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)(最终以工商登记机关核定为准)
主营业务主要产品为半导体薄膜沉积设备包括PECVD设备,ALD设备及SACVD设备三个系列.主要从事高端半导体专用设备的研发,生产,销售和技术服务.
证监会行业(新)专用设备制造业
证监会行业(新)代码35
省份辽宁
城市沈阳市
区县信息浑南区
员工总数1569
注册地址辽宁省沈阳市浑南区水家900号
办公地址辽宁省沈阳市浑南区水家900号
办公地址邮编110168
公司电话024-24188000,024-24188000-8089
公司传真024-24188000-8080
公司电子邮件地址ir@piotech.cn;Dongban@piotech.cn
公司网址www.piotech.cn
董事会秘书电话024-24188000-8089
信息披露人赵曦
实际控制人
实际控制人类型
最终控制方
最终控制方类型
公司独立董事(现任)黄宏彬,赵国庆,吴汉明
公司独立董事(历任)--
审计机构天健会计师事务所(特殊普通合伙)
律师事务所北京市中伦律师事务所
所属证监局辽宁证监局
证券事务代表刘锡婷
年度股东大会召开日--
公司英文简称--
是否属于贫困县
所属地区板块辽宁省
申万行业英文简称--
GICS行业英文简称Semiconductors & Semiconductor Equipment
证监会行业(新)英文简称Special-purpose Machinery Manufacturing

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