中微公司(688012)2025年三季报点评：刻蚀+薄膜持续放量 Q3收入业绩均创历年同期新高

事项：


　　2025 年10 月29 日，公司发布2025 年三季度报告：


　　1）2025Q1-Q3 公司实现营业收入80.63 亿元，同比+46.40%；毛利率39.10%，同比-3.12pct；归母/扣非归母净利润12.11/8.87 亿元，同比+32.66%/+9.05%；? 2）2025Q3 公司实现营业收入31.02 亿元，同比/环比+50.62%/+11.29%；毛利率37.89%，同比/环比-5.84pct/-0.65pct；归母净利润5.05 亿元，同比/环比+27.50%/+28.62%；扣非归母净利润3.48 亿元，同比/环比+5.38%/+44.73%。


　　评论：


　　公司刻蚀设备延续放量趋势，薄膜设备高速上量，带动整体营收保持高增长。


　　2025 年前三季度公司实现营业收入80.63 亿元（YoY+46.40%），其中，刻蚀设备收入61.01 亿元，同比增长约38.26%；LPCVD 和ALD 等薄膜设备收入4.03亿元，同比大幅增长约1332.69%。Q3 单季度实现营收31.02 亿元，归母净利润5.05 亿元（YoY+27.50%，QoQ+28.62%），均为历年同期新高。业绩提升或主要得益于新产品持续放量与规模效应释放，盈利能力稳步修复。当前高研发投入仍阶段性压制利润，但随着后续新品持续放量，有望进一步增强公司盈利弹性。


　　刻蚀、薄膜及外延设备多线突破，助力加强前道核心设备领域覆盖率。公司在先进逻辑与存储器件关键刻蚀领域实现显著突破：1）刻蚀设备方面，CCP 系列中60 比1 超高深宽比介质刻蚀设备已成为国内标配，量产指标稳步提升，下一代90 比1 产品即将进入市场；ICP 系列适用于下一代逻辑与存储客户的设备及化学气相刻蚀设备开发进展顺利，加工精度与重复性已达单原子级水平；2）薄膜设备方面，公司面向先进逻辑与存储制造的多款LPCVD、ALD 产品已顺利进入市场，设备覆盖率稳步提升，性能对标国际先进水平；3）外延设备方面，硅与锗硅EPI 设备已在客户端完成量产验证并获得客户高度认可，同时公司在化合物半导体外延设备领域持续拓展，已陆续付运至客户端开展生产验证。产品矩阵的持续完善有望推动公司在前道核心设备领域的市场覆盖率。


　　高研发投入支撑技术加速迭代，技术优势与国产替代逻辑共振强化。 半导体设备国产化进程加速，存储器由2D 向3D 转型带动刻蚀与薄膜设备需求大幅增长。公司立足先进制程工艺最前沿，前三季度研发投入25.23 亿元（YoY+63.44%），研发支出占收入比达31.29%，显著高于科创板平均水平。


　　当前在研项目涵盖六大类设备、二十余款新品，研发周期由3–5 年缩短至2 年甚至更短。快速迭代能力或持续增强公司前沿技术产品的交付能力与竞争壁垒。未来，随着AI、先进逻辑与3D 存储持续扩产，公司有望在高端刻蚀、薄膜与外延等核心环节进一步提升市占率，实现技术领先与国产替代的双轮驱动成长。


　　投资建议：下游扩产叠加替代加速，公司作为国内半导体设备重要厂商有望显著受益，但考虑新产品爬坡及持续高研发投入预计阶段性压制盈利表现，我们将公司2025-2027 年归母净利润预测由22.11/30.57/40.31 亿元下调至19.41/29.23/39.58 亿元。结合公司历史估值及行业平均估值水平，给予公司2026 年15 倍PS，对应目标价为373.3 元，维持“强推”评级。


　　风险提示: 国际贸易形势变化；下游扩产不及预期；新品拓展不及预期；上游零部件供应短缺；行业竞争加剧。

□.岳.阳    .华.创.证.券.有.限.责.任.公.司