中微公司(688012)：刻蚀与薄膜沉积设备持续向好

中微公司发布三季报： Q3 实现营收31.02 亿元（ yoy+50.62%，qoq+11.29%），归母净利5.05 亿元（yoy+27.50%，qoq+28.62%）。2025年Q1-Q3 实现营收80.63 亿元（yoy+46.40%），归母净利12.11 亿元（yoy+32.66%），扣非净利8.87 亿元（yoy+9.01%）。公司25Q3 收入利润同比继续保持较高增长，高性能刻蚀设备与薄膜沉积设备持续向好，刻蚀设备龙头不断向平台化公司迈进，上调至“买入”评级。


　　研发投入力度加大，非经常损益助力利润


　　2025 年前三季度净利润增长，研发投入显著提升。2025 年前三季度公司实现营业收入80.63 亿元，同比增长46.40%；归属于上市公司股东的净利润为12.11 亿元，同比增长32.66%。2025Q3 公司实现营业收入31.02 亿元，同比增长50.62%。净利润增长主要因前三季度营业收入增长使毛利增加8.27亿元，且非经常性损益的股权投资收益增加2.75 亿元。费用率方面，前三季度研发支出25.23 亿元，较去年同期增长约63.44%，研发支出占公司营业收入比例约为31.29%，yoy+3.26pct，主要系公司加大研发力度以补短板。


　　刻蚀设备收入继续高增，高性能CCP 与ICP 产品进展持续公司25Q1-Q3 刻蚀设备收入61.01 亿元，同比增长约38.26%；公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件的超高深宽比刻蚀工艺实现大规模量产。其中CCP 方面，公司用于关键刻蚀工艺的单反应台介质刻蚀产品保持高速增长，60 比1 超高深宽比介质刻蚀设备成为国内标配设备，量产指标稳步提升，下一代90 比1 超高深宽比介质刻蚀设备即将进入市场；ICP 方面，适用于下一代逻辑和存储客户用ICP 刻蚀设备和化学气相刻蚀设备开发取得了良好进展。加工的精度和重复性已达到单原子水平。


　　薄膜沉积设备放量，新产品进展良好覆盖率不断增加公司25Q1-Q3 的LPCVD 和ALD 等薄膜设备收入4.03 亿元，同比增长约1332.69%。公司为先进存储器件和逻辑器件开发的LPCVD、ALD 等多款薄膜设备已经顺利进入市场，并且设备性能完全达到国际领先水平，薄膜设备的覆盖率不断增加。公司硅和锗硅外延EPI 设备已顺利运付客户端进行量产验证，并且获得客户高度认可。在泛半导体设备领域，公司正在开发更多化合物半导体外延设备，已陆续付运至客户端开展生产验证。


　　给予公司目标价333.2 元，上调至“买入”评级我们维持公司2025-2027 年归母净利润预测分别为22.87/29.83/38.55 亿元。可比公司26 年ifind 一致预期PE 均值为49 倍（前值25 年42 倍），考虑公司刻蚀设备订单饱满，LPCVD/量检测等新产品进展较快，继续向平台化公司迈进，给予公司26 年70 倍PE（前值25 年55 倍），目标价333.2元（前值202.4 元），上调至“买入”评级。


　　风险提示：半导体周期性波动，新产品研发不及预期。

□.倪.正.洋./.谢.春.生    .华.泰.证.券.股.份.有.限.公.司