中微公司(688012)产品线不断丰富 国产替代稳步推进

事项：


　　公司公布2025 年三季报， 2025 年前三季度公司实现营收80.63 亿元（46.40%YoY），归属上市公司股东净利润12.11亿元（32.66%YoY）。


　　平安观点：


　　国内半导体设备平台企业，持续研发投入：2025年前三季度公司实现营收80.63亿元（46.40%YoY），归属上市公司股东净利润12.11亿元（32.66%YoY，公司2025年前三季度计入非经常性损益的股权投资收益为3.29亿元，较上年同期增加约2.75亿元）。其中刻蚀设备收入61.01亿元，同比增长约38.26%；LPCVD和ALD等薄膜设备收入4.03亿元，同比增长约1332.69%。2025年前三季度公司整体毛利率和净利率分别是39.10%（-3.12pctYoY）和14.64%（-1.92pctYoY）。公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件的超高深宽比刻蚀工艺实现大规模量产。其中CCP方面，公司用于关键刻蚀工艺的单反应台介质刻蚀产品保持高速增长，60比1超高深宽比介质刻蚀设备成为国内标配设备，量产指标稳步提升，下一代90比1超高深宽比介质刻蚀设备即将进入市场；ICP方面，适用于下一代逻辑和存储客户用ICP刻蚀设备和化学气相刻蚀设备开发取得了良好进展。加工的精度和重复性已达到单原子水平。研发投入方面：2025年前三季度公司研发支出25.23亿元，较去年同期增长约63.44%，研发支出占公司营业收入比例约为31.29%。公司目前在研项目涵盖六类设备，超二十款新设备的开发。公司研发新产品的速度显著加快，过去通常需要三到五年开发一款新设备，现在只需两年或更短的时间就能开发出有竞争力的新设备，并顺利进入市场，公司有望在未来几年加速、大规模地推出多种新产品。


　　刻蚀类产品线不断丰富，国产替代稳步推进：1）CCP刻蚀设备：公司CCP刻蚀设备中双反应台机型PrimoD-RIE、PrimoAD-RIE、PrimoADRIE-e和单反应台机型PrimoHD-RIE等产品已广泛应用于国内外一线客户　　的生产线，用于高精度高选择比刻蚀工艺的单反应台产品PrimoHD-RIEe和用于超高深宽比刻蚀工艺的PrimoUD-RIE持续获得客户订单。截至2025年上半年，CCP刻蚀设备累计装机量超过4500个反应台，较2024年同期增长超过900个反应台。


　　2）ICP刻蚀设备：公司的ICP刻蚀设备在涵盖逻辑、DRAM、3DNAND、功率和电源管理、以及微电机系统等芯片和器件的50多个客户的生产线上大规模量产，并继续验证更多ICP刻蚀工艺。截至2025年上半年，ICP刻蚀设备累计装机量超过1200个反应台。公司8英寸和12英寸深硅刻蚀设备PrimoTSV200E、PrimoTSV300E在晶圆级先进封装、2.5D封装和微机电系统芯片生产线等成熟市场继续获得重复订单的同时，在12英寸3D芯片的硅通孔刻蚀工艺上得到成功验证，并获得在欧洲客户12英寸微机电系统芯片产线上进行机台认证的机会，这些新工艺的验证为公司PrimoTSV300E刻蚀设备拓展了新的市场。公司PrimoMenova?12寸金属刻蚀设备全球首台机顺利付运国内一家重要集成电路研发设计及制造服务商，开始现场验证。


　　投资建议：公司作为半导体设备国内领先企业，充分受益于半导体国产化。根据最新财报，我们调整公司盈利预测，预计2025-2027年公司归母净利润为20.62亿元/29.59亿元/38.83亿元（原值为23.63亿元/30.84亿元/40.59亿元），对应的市盈率分别为89倍、62倍、47倍。公司设备产品研发进展顺利，维持“推荐”评级。


　　风险提示：1）下游客户扩产投资不及预期的风险。若下游晶圆厂和LED芯片制造商的后续投资不及预期，对相关设备的采购需求减弱，这将影响公司的订单量，进而对公司的业绩产生不利影响。2）新产品研发不及预期风险。若公司新产品研发不及预期，将影响公司长远发展。3）研发人员流失的风险。公司所在行业是人才密集型行业，核心研发人员的流失会对公司产生一定影响。

□.徐.勇./.杨.钟./.陈.福.栋./.郭.冠.君./.徐.碧.云    .平.安.证.券.股.份.有.限.公.司